武漢光催化反應(yīng)器CY-GHX-B光化學(xué)反應(yīng)儀技術(shù)參數(shù)：

型號：CY-GHX-B大容量光化學(xué)反應(yīng)儀

（一）主體部分

1.光源功率可連續(xù)調(diào)節(jié)大小。

2.集成式光源控制器，可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。

3.汞燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

4.氙燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

5.金鹵燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~500W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

（二）大容量反應(yīng)部分

1.玻璃反應(yīng)器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等（或定做）。

2.大功率強力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。

大容量光化學(xué)反應(yīng)儀產(chǎn)品配置：

武漢光催化反應(yīng)器CY-GHX-B光化學(xué)反應(yīng)儀 光化學(xué)過程是地球上普遍、量重要的過程之一，綠色植物的光合作用，動物的視覺。涂料與高分子材料的光致變性，以及照相、光刻、有機化學(xué)反應(yīng)的光催化等，無不與光化學(xué)過程有關(guān)。

  近年來得到廣泛重視的同位素與相似元素的光致分離、光控功能體系的合成與應(yīng)用等，更體現(xiàn)了光化學(xué)是一個極活躍的領(lǐng)域。光化學(xué)反應(yīng)與一般熱化學(xué)反應(yīng)相比有許多不同之處，主要表現(xiàn)在：加熱使分子活化時，體系中分子能量的分布服從玻耳茲曼分布；而分子受到光激活時，原則上可以做到選擇性激發(fā)。體系中分子能量的分布屬于非平衡分布。所以光化學(xué)反應(yīng)儀的途徑與產(chǎn)物往往和基態(tài)熱化學(xué)反應(yīng)不同。

  光化學(xué)研究反應(yīng)機理的常用實驗方法，除示蹤原子標記法外，在光化學(xué)中早采用的猝滅法仍是非常有效的一種方法。這種方法是通過被激發(fā)分子所發(fā)熒光，被其他分子猝滅的動力學(xué)測定來研究光化學(xué)反應(yīng)機理的。它可以用來測定分子處于電子激發(fā)態(tài)時的酸性、分子雙聚化的反應(yīng)速率和能量的長程傳遞速率。

  由于吸收給定波長的光子往往是分子中某個基團的性質(zhì)，所以光化學(xué)提供了使分子中某特定位置發(fā)生反應(yīng)的對于那些熱化學(xué)反應(yīng)缺乏選擇性或反應(yīng)物可能被破壞的體系更為可貴。光化學(xué)反應(yīng)的另一特點是用光子為試劑。

光化學(xué)的初級過程是分子吸收光子使電子激發(fā)，分子由基態(tài)提升到激發(fā)態(tài)。分子中的電子狀態(tài)、振動與轉(zhuǎn)動狀態(tài)都是量子化的，即相鄰狀態(tài)間的能量變化是不連續(xù)的。因此分子激發(fā)時的初始狀態(tài)與終止狀態(tài)不同時，所要求的光子能量也是不同的，而且要求二者的能量值盡可能匹配。

光物理過程可分為輻射弛豫過程和非輻射弛豫過程。輻射弛豫過程是指將全部或部分多余的能量以輻射能的形式耗散掉，分子回到基態(tài)的過程，如發(fā)射熒光或磷光；非輻射弛豫過程是指多余的能量全部以熱的形式耗散掉，分子回到基態(tài)的過程。

  決定一個光化學(xué)反應(yīng)儀的真正途徑往往需要建立若干個對應(yīng)于不同機理的假想模型。找出各模型體系與濃度、光強及其他有關(guān)參量間的動力學(xué)方程，然后考察實驗結(jié)果的相符合程度，以決定哪一個是可能的反應(yīng)途徑。一旦被反應(yīng)物吸收后，不會在體系中留下其他新的雜質(zhì)，因而可以看成是“純”的試劑

一、必須重視儀器設(shè)備的管理和使用

　　儀器設(shè)備的高負荷使用，往往容易發(fā)生意外故障，特別是光學(xué)儀器若因維護和使用不當而起霧，就不能發(fā)揮儀器的正常作用，而帶來工作上的障礙。所以高效的維護管理儀器設(shè)備已成為當今企事業(yè)單位有效降低成本，提高勞動生產(chǎn)率的有效手段。目前國內(nèi)企業(yè)設(shè)備維護管理一般還停留在被動的搶修作業(yè)模式，即當儀器設(shè)備發(fā)生故障，無法繼續(xù)使用時，維修人員才在短時間內(nèi)將故障排除，而當沒有發(fā)生故障時，維修人員只是空閑，所以這樣的管理模式是談不上效率的，因此，儀器設(shè)備的管理也應(yīng)做好計劃，同樣設(shè)備維護管理也需要把非計劃性的工作轉(zhuǎn)化為計劃性的工作。如果我們定期的檢查保養(yǎng)來減低故障的發(fā)生，特別是做好儀器的"三防"工作，避免搶修工作，保證儀器隨時能投入正常的作用，這就是一種主動的方式。

　　二、注意測繪儀器的防霧

　　測繪儀器在使用和貯放中，除了有生霉現(xiàn)象外，往往還有光學(xué)零件的起霧，影響儀器的正常使用，故可針對光學(xué)信器起霧的主要因素，采取防止措施。

　　A、設(shè)計使用中的防霧措施

　　A1、設(shè)計儀器時注意防霧，儀器結(jié)構(gòu)應(yīng)加強密封性能，保證儀器在高溫或低溫情況下不降低密封性能，以防止因漏氣而引起的水性霧，設(shè)計人員應(yīng)當充分注意選擇化學(xué)穩(wěn)定性能好的光學(xué)玻璃和材料，為防霧打下良好的基礎(chǔ)。

　　A2、在制造和維修過程中注意整潔生產(chǎn)，裝配和維修的工房須清潔，并嚴格遵守操作規(guī)程，精心擦拭光學(xué)零件，嚴禁用手直接接觸和拿取光學(xué)零件，夾持光學(xué)零件的工具須進行脫脂處理，擦光學(xué)零件所用的輔件，如棉光、布塊、乙醇、yi醚、碘以及與光學(xué)零件接觸的有機墊片均須進行嚴格脫脂，控制含脂量，裝光學(xué)零件的器皿和盛乙醇、yi醚的瓶子，須經(jīng)常清洗，保持清潔，這些都是減少油性霧的重要途徑。

　　A3、減少儀器內(nèi)部的水蒸氣，防止水蒸氣在玻璃表面上凝結(jié)，盡可能在干燥的條件下進行裝配或?qū)ρb配好的儀器進行干燥處理，如充干燥氮氣或空氣以及放置干燥劑。儀器在使用和庫存中，盡量控制使用環(huán)境和庫房的相對濕度在6%左右，對于外業(yè)儀器在使用中不好控制濕度，用后應(yīng)放在通風(fēng)、向陽、干燥的地方，在儀器箱內(nèi)放入干燥劑，并注意密封和及時更換烘干硅膠干燥劑，在潮濕環(huán)境下，使用的內(nèi)業(yè)儀器，如糾正儀、復(fù)照儀等，對于可取下來的鏡頭和精密的光學(xué)部件，用后及時取下來故人干燥缸內(nèi)加以保護，并經(jīng)常保持儀器清潔，減少結(jié)霧核心。

　　A4、合理選擇和使用油脂，光學(xué)儀器上用的各種防塵脂、潤油油脂必須是揮發(fā)度極低和化學(xué)穩(wěn)定性好的材料，在光學(xué)儀器的金屬零件上涂油脂時，首先要把零件清洗干凈，讓汽油揮發(fā)完后再涂油脂，并且要涂均勻而不能過多，距光學(xué)件10-15mm的范圍內(nèi)，禁止涂潤滑油脂和防塵脂，防止油脂擴散引起油性霧。

　　A5、提高光學(xué)玻璃表面的化學(xué)穩(wěn)定性，利用化學(xué)鍍膜或真空鍍膜方法，在玻璃表面鍍一層憎水膜，以提高玻璃的化學(xué)穩(wěn)定性，增強玻璃的抗腐蝕能力，減少起霧，為了減輕水性霧對觀察的影響，也可采用親水材料，鍍上一層透明的具有一定的物理性能偽親水膜，使水霧能全部散開，均勻的分散在膜層中，不影響觀察，當大氣干燥時，膜層中的水分自然地揮發(fā)到大氣中。

　　A6、除霉，除霧

　　光學(xué)儀器一旦生霉起霧，就造成了不良的影響，而且給修理工作帶來很多麻煩，因此，要以防為主，從儀器設(shè)計、制造開始就注意搞好防霉防霧，儀器庫存和使用中加強維護保養(yǎng)，是做好防霉防霧工作重要保證。而如果儀器已經(jīng)生霉起霧，就應(yīng)及時處理，以免造成更大損失。如果霜霧只在初期階段，即在儀器生霉起霧后，很短的時間內(nèi)，只在玻璃表面層附蓋著而沒有侵蝕玻璃和破壞膜層的時候，可以用混合液擦掉。儀器生霧起霧后應(yīng)及時處理，否則時間長了，就會腐蝕光學(xué)零件的表面和鍍膜，甚至于玻璃腐蝕，應(yīng)及時用一般的混合液或用乙基含氫二氯硅烷溶液擦洗，這種溶液即防霧，又有一定的除霧除霉作用。多倍儀的綠色濾光片大部分是磷酸鹽玻璃，很易起霧，而且很難擦凈，可以用稀的氨水擯洗，而后用水洗凈，再及時用混合液把濾光片表面擦干，但這種玻璃很不穩(wěn)定，如果不用時，擦凈放在干燥皿內(nèi)，或及時作霧處理，否則還會生霉起霧。對硅酸鹽玻璃盡量避免用堿性的物質(zhì)去擦，因為堿對硅酸鹽類有腐蝕作用。如果當光學(xué)零件嚴重生霉起霧，并已腐蝕了玻璃，只有重新更換玻璃或重新把光學(xué)零件拋光。總之光學(xué)儀器要以防為主，發(fā)現(xiàn)霉霧要及時除掉，除霉霧后，要及時采取防霧防霉措施，才能保護儀器使之發(fā)揮更大的作用。